在高温电流的作用下,电解质水产生电离子,分离化学液态电浆,利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子,等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。等离子抛光的过程中涉及到化学变化,其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程,其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质,这些中性物质称其为自由基,与原来的气体分子相比,这些自由基是活跃的刻溶剂。等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理,还包含物理方法的去除原理,但主要的还是气相化学反应去除原理。
等离子抛光的水处理是处理等离子抛光的废液、在没有抛光之前、抛光盐是的、但抛光后会有被抛金属和抛光液反应的生成物在抛光液里面、此时抛光液里面就会有一些重金属在里面、就要做处理才可以排放。八溢自动化设备有限公司有相应的配套水处理设备、可以将抛光液基馏、只留下抛光残渣、做固废处理即可、水变成水蒸气或者蒸馏水排出。无污染、可以做到水循环利用或者零排放。
抛光液的温度越低,材料的去除速度越快。低温条件下材料的去除速度快主要是因为: 温度越低,抛光液被蒸发需要吸收的热量就越多,相同条件下生成的气体越少,包围在零件周围的混合气体层越薄,而在压强和电压不变的情况下,气体变薄就意味着电场强度增大,导致碰撞电离系数---增大,虽然总的碰撞距离减小,但仍然有更多的电子冲击到工件表面,材料的去除速度当然更快。但在抛光液低温情况下,混合气体层较薄,也意味着气体层不太稳定,等离子抛光过程中断并转变一般电解的的可能性越大,同时气体层薄也意味着系统的电阻减小,电流增大,且电流值大幅度变化,常常引起零件尖锐部位烧蚀等现象,这对复杂形状零件和大尺寸零件来说---明显。随着抛光液温度的提高,等离子纳米抛光过程开始稳定,90-100属于理想加工温度范围,在这一范围内材料的去除速度虽然不是快,却更容易获得---的表面。温度继续升高将导致抛光液气化增强,混合气层温度升高厚度增加,加工时间也相应延长。当抛光液温度达到95-99°c时,等离子加工过程转到泡沫状态。抛光液沸腾,蒸气气层失去自身的尺寸和形状整个零件处于连续移动的泡沫中,其电阻与等离子理想加工状态的气层电阻值相比---提高,此时被加工表面电流也会减小。
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