等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理---为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
等离子抛光技术是目前进的表面微观整平技术之一，可以在较短时间内实现对样件表面粗糙度的---下降。该技术利用离子放电原理，使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成，从而优先去除该位置的材料，实现表面微观整平。抛光开始阶段，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，使得放电通道更多选择在凸起的位置形成，粗糙度下降速度快。但随着抛光时间的延长，粗糙度下降的速度逐渐减缓。离子抛光技术是现代制造业中不可或缺的重要技术，为提高产品提供了强有力的保障。
电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰，无法使用电导法对抛光液中有效成分的含量进行检测，为了解决这一问题，基于实验提出了两种确定抛光液有效成分含量的方法。一种方法是利用抛光液中的有效成分低于抛光的电流密度会明显下降的现象，定时测抛光过程中电流值和抛光液温度，以确定是否需要补充。另一种方法是通过实验得到定抛光液温度下抛光量与有效成分消耗量的关系，再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中有效成分含量的方法。
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息，谢谢！
本文链接：https://tztz247004a1.zhaoshang100.com/zhaoshang/281419111.html
关键词：
滇公网安备 53011202000392号